详细摘要： MATTSON二手刻蚀机ASPENIII，2006年设备，lightetcher，可对12英寸晶圆进行蚀刻工艺处理
产品型号：所在地：更新时间：2023-07-30 在线留言污水处理设备 污泥处理设备 水处理过滤器 软化水设备/除盐设备 纯净水设备 消毒设备|加药设备 供水/储水/集水/排水/辅助 水处理膜 过滤器滤芯 水处理滤料 水处理剂 水处理填料 其它水处理设备
青岛佳鼎分析仪器有限公司
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详细摘要： MATTSON二手刻蚀机ASPENIII，2006年设备，lightetcher，可对12英寸晶圆进行蚀刻工艺处理
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详细摘要： 二手刻蚀机现货供应MATRIXSYSTEMONE106，1995年设备，可对4-6英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工
产品型号：所在地：更新时间：2023-07-14 在线留言
详细摘要： 二手刻蚀机现货TOKYOOKA/TOKTCE-3822，2011年设备，可对尺寸为5英寸的晶圆进行蚀刻工艺处理
产品型号：所在地：更新时间：2023-07-13 在线留言
详细摘要： PVATEPLA/TECHNICS300AUTOLOADPC刻蚀机
产品型号：所在地：更新时间：2023-07-05 在线留言
详细摘要： PVATEPLA/TECHNICS660刻蚀机二手现货，2008年设备，仅运行16小时，微波等离子刻蚀设备
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-30 在线留言
详细摘要： AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的专有ICP源设计，为半导体制造商提供经过生产验证且具有成本效益的剥离和蚀刻解决方案
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-21 在线留言
详细摘要： TEL刻蚀系统Tactras™是一种高度可靠的300毫米等离子蚀刻系统，可提高蚀刻工艺的工作效率
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-20 在线留言
详细摘要： TEL刻蚀系统CertasLEAGA™是一种环保、高通量的气体化学蚀刻系统，专为300毫米晶圆而设计，无需使用液体即可提供表面蚀刻和清洁
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-19 在线留言
详细摘要： SAMCO等离子刻蚀机RIE-300NR是一种理想的反应离子蚀刻系统，适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆（ø3"×12，ø4"×8等），具有优异的均匀性
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-14 在线留言
详细摘要： SAMCOICP刻蚀机RIE-230iP是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的负载锁定型ICP蚀刻系统
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-13 在线留言
详细摘要： SAMCO二手现货ICP刻蚀机RIE-400iP是用于ø4"晶圆的负载锁定型蚀刻系统，可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-12 在线留言
详细摘要： SAMACOICP蚀刻设备RIE-800iPC，具有优良工艺再现性的生产设备它是一种使用感应耦合等离子体作为放电类型的高密度等离子体蚀刻设备
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-11 在线留言
详细摘要： SAMCO二手翻新ICP刻蚀机RIE-400iPC，是高密度等离子体蚀刻系统，采用电感耦合等离子体作为放电形式
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-10 在线留言
详细摘要： SAMCO二手翻新刻蚀系统刻蚀机RIE-10NR产品优势：高度紧凑型设计，节约空间
产品型号：所在地：更新时间：2023-01-09 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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